Ultrafine renromsservietter i nanoskala
Weston Nano Scale Ultra Fine Cleanroom Wipes er designet for kontrollerte miljøer som krever lav partikkelfrigjøring, sterk absorberingsevne og pålitelig rengjøringsytelse. De er bygget for halvledere og avanserte produksjonsområder der overflaterenshet direkte påvirker prosessstabiliteten.
Disse kluterene kombinerer ultra-fine polyester/nylonfibre, en ikke-strekk stoffstruktur og ultralydforseglede kanter for å støtte presis rengjøring under ISO 4-5 renromsforhold. Resultatet er en kluter som hjelper til med å fjerne gjenstridig forurensning samtidig som den reduserer risikoen for å introdusere nye partikler.
Kjerneproduktfunksjoner
Ultra-fin mikrofiberkonstruksjon for bedre absorpsjon og effektiv fjerning av fremmede partikler.
01
Høy-tetthet, ultra-glatt overflate for å redusere fiberavgivelse på mikron-nivå under kraftig-rengjøring.
02
Ikke-strekkstoff med ultralydforseglede kanter for å forhindre riving og minimere partikkelgenerering.
03
Asymmetrisk mikrofiberstruktur som fjerner gjenstridig forurensning raskt, ofte kun med vann, og bidrar til å redusere bekymringer for IPA-rester.
04
Streng rengjort og pakket for å støtte lav-forurensningsbruk før du går inn i renrommet.
05
Produktfordeler
Disse serviettene er spesielt nyttige når rengjøringsoppgaven involverer sensitivt utstyr, wafer-relaterte overflater eller områder der partikkelkontroll er viktigere enn hastighet alene. Strukturen deres er designet for å rengjøre uten lett å bryte ned under press.
Fordi materialet kan fungere effektivt med vann, kan brukere redusere avhengigheten av IPA i noen rutinemessige rengjøringstrinn. Det kan være nyttig i operasjoner der restkontroll og kjemikaliehåndtering er viktig.
ProduktSpesifikasjoner
|
Punkt |
Detaljer |
|
Produktnavn |
Ultrafine renromsservietter i nanoskala |
|
Merke |
Weston |
|
Materiale |
Polyester/nylon ultra-fin mikrofiber |
|
Stoffstruktur |
Ikke-strekk vevd stoff |
|
Kanttype |
Ultralydforseglede kanter |
|
Størrelse |
8 x 8 cm |
|
Emballasje |
Vakuumpakket |
|
Innerpakke |
5 stykker per pakke, enkelt-emballasje |
|
Renromsklasse |
Egnet for ISO 4-5 miljøer |
|
Hovedbruk |
Semiconductor fab og avansert renromsrengjøring |
|
Typisk applikasjonsnode |
Wafer-fabrikker som opererer under 10 nm prosessnoder |
Testdata
|
Testelement |
Enhet |
Test standard / rekkevidde |
Resultat |
|
Dimensjonsavvik |
% |
±10 |
Utdannet |
|
Breddeavvik |
mm |
±3 |
Utdannet |
|
Tykkelsesavvik |
mm |
±0.4 |
Utdannet |
|
Strekkkraft, langsgående |
N·m/g |
Større enn eller lik 1,5 |
Utdannet |
|
Absorberingsevne |
% |
75.0–90.0 |
80 |
|
Vannabsorpsjonshastighet |
Tider |
Større enn eller lik 2,0 |
Utdannet |
|
pH |
/ |
4.0–9.0 |
7.0 |
|
Utskiftbart vann |
% |
Mindre enn eller lik 10 |
Utdannet |
|
Støvpartikler |
Telle |
Se oversikten nedenfor |
Utdannet |
|
Diametertoleranse |
mm |
+50 / -100 |
Utdannet |
Partikkelkontroll sammenbrudd
|
Partikkelstørrelse |
Begrense |
Resultat |
|
0,2 mm til 1,0 mm |
Mindre enn eller lik 20 stk/m² |
Utdannet |
|
1,0 mm til 2,0 mm |
Mindre enn eller lik 20 stk/m² |
Utdannet |
|
Større enn 2,0 mm |
Mindre enn eller lik 1 stk/m² |
Utdannet |
Antibakterielle testresultater
|
Testelement |
Metode |
Mål |
Resultat |
Konklusjon |
|
Antibakteriell hastighet |
GB/T 20944.3-2008 ristemetode |
Gullgul stafylokokk (ATCC6538) Større enn eller lik 70 |
>99 |
Antibakteriell effekt bekreftet |
|
Antibakteriell hastighet |
GB/T 20944.3-2008 ristemetode |
E. coli (8099) Større enn eller lik 70 |
99 |
Antibakteriell effekt bekreftet |
|
Antibakteriell hastighet |
GB/T 20944.3-2008 ristemetode |
Hvit candida (ATCC10231) Større enn eller lik 60 |
97 |
Antibakteriell effekt bekreftet |
Applikasjonsscenarier
Disse serviettene brukes hovedsakelig i halvleder-FAB-renrom, spesielt i ISO 4-5 produksjonssoner. De er et praktisk valg for områder hvor partikkelfrigjøring, rester og overflateintegritet må kontrolleres samtidig.
Typiske bruksområder inkluderer:
- Tørking av waferutstyr før og etter vedlikehold.
- Rengjøring av verktøy og armaturer i prosessområder med lite-partikler.
- Overflaterengjøring rundt følsomme prosesskamre og overføringssoner.
- Presisjonsrengjøringsoppgaver der vann-basert avtørking foretrekkes.
- Rutinemessig fjerning av forurensning i sub-10 nm nodeproduksjonsmiljøer.
Eksempel på bruk
I en halvlederfabrikk kan vedlikeholdspersonalet bruke disse kluterene til å rengjøre maskinoverflater etter servicearbeid. Tørkestrukturen hjelper til med å fjerne oljeaktige rester og fin forurensning uten lett å kaste fibre inn i arbeidsområdet.
I et annet eksempel kan en renromsoperatør bruke vann-fukte våtservietter for rask overflaterengjøring på et verktøyhus. Dette kan redusere behovet for gjentatt IPA-bruk samtidig som det støtter partikkelkontroll.
Ofte stilte spørsmål
Populære tags: nanoskala ultra fine renromsservietter, Kina nanoskala ultra fine renromsservietter produsenter, leverandører, fabrikk
